技術課題の解決
製造・TEST・測定・品質に関する課題を、現場のデータと実務経験に基づいて整理・分析し、原因の解明と改善策の検討を支援します。
M&M International — From Insight to Innovation
40年以上の半導体製造・TEST現場経験を活用し、企業の技術課題の解決と次の成長を支援します。
M&M Internationalは、40年以上にわたる半導体製造・TEST現場での経験を活用し、企業が抱える技術課題の解決と次の成長を支援します。
製造・TEST・測定・品質に関する課題を、現場のデータと実務経験に基づいて整理・分析し、原因の解明と改善策の検討を支援します。
装置・測定手法・解析基盤の改善を通じて、品質・信頼性・生産性の向上と技術的な競争力の強化を支援します。
技術・データ・市場を結び、研究成果の実装、新しい測定・解析手法の活用、事業機会の検討を支援します。
半導体の前工程・後工程に関する技術課題、工程条件、歩留まり改善について、製造現場の視点から技術的な助言を行います。
E-TEST・Parametric Test、I/V特性、Raw Data、測定条件、不良解析など、測定データを活用した課題の可視化と改善を支援します。
TESTER・PROBER、プローブ制御、測定システムの評価、装置仕様の検討など、測定装置に関する技術支援を行います。
高耐圧・微小電流・低リーク測定を中心に、測定環境の評価と安定化、再現性・信頼性の向上を支援します。
統計解析・多変量解析、製造データ・E-TESTデータ・装置ログの可視化を通じて、Process InformaticsおよびBIを活用した技術課題の解析を支援します。
RCA(Root Cause Analysis)、故障メカニズムの検討、品質改善、信頼性評価などを支援します。
装置仕様の検討、導入前の技術レビュー、CoO(Cost of Ownership)・運用コストの評価など、設備導入に関する技術的な判断を支援します。
技術講演、技術資料の作成、人材育成、大学・研究機関との技術交流などを通じて、技術知識の共有と次世代エンジニアの育成を支援します。
M&M Internationalは、半導体製造現場での経験と測定・解析技術の知見を活用し、製造メーカー、装置メーカー、部品メーカー、解析ソフトウェア企業などの技術課題に対応します。
必要に応じて、異なる技術分野や企業間の連携を検討し、課題解決に向けた技術的な橋渡しを支援します。
既存装置の技術課題、測定環境の安定化、高耐圧測定への対応、装置改善に必要な部品・技術の評価や導入検討を支援します。
先端プローブ技術、MEMSプローブカード、測定環境、次世代測定技術に関する技術評価・課題整理・改善検討を支援します。
装置の技術評価、測定性能・安定性の改善、仕様検討、装置と測定技術の組み合わせによる競争力向上を支援します。
半導体製造・E-TEST・装置ログのデータ解析、Process Informatics、BI・可視化技術の製造現場への適用を支援します。
製造・TEST現場における技術課題の抽出、原因解析、歩留まり・品質改善、測定環境の安定化を支援します。必要に応じて、関連する技術・装置・部品・解析手法の導入や企業間の技術連携を検討します。
日常的な技術相談、測定データ・装置ログの解析、技術課題の整理、改善案・評価方法の提案を行います。
技術ミーティングへの参加・同行、技術説明、Technical Noteの作成、技術講演、教育・人材育成を支援します。
改善策の検討、装置仕様・投資評価、研究機関との技術交流、実行後の継続フォローを支援します。
支援内容や期間、継続的な技術顧問の形態については、対象となる技術課題と企業のご要望に応じて個別に協議します。
半導体製造、TEST・測定技術、装置評価、データ解析・DX、技術教育、企業間の技術連携などについて、お気軽にお問い合わせください。
Takeki Andoh
Founder / Principal Consultant
M&M International
E-mail: ando@mmi-ai.jp
Website: https://mmi-ai.jp/
Base: Tsukuba, Ibaraki, Japan
R&D Base: Sanmu, Chiba, Japan
具体的な支援範囲・契約条件は、個別協議により決定します。技術情報の秘密保持、知的財産の権利関係、関係企業との契約条件を尊重します。本ページに記載した技術連携支援は、特定企業の正式な代理店、販売代理店、または特定機関との公式な提携関係を示すものではありません。